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紫外線氯胺與過硫酸鹽高級氧化技術

更新時間: 2026-04-23
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紫外線氯胺(UV/NH?Cl)技術通過光解一氯胺產生氯自由基和羥基自由基;而紫外線/過硫酸鹽技術則通過光解過硫酸鹽(如PDS)產生硫酸根自由基(SO?·?)。硫酸根自由基的氧化電位為2.5-3.1V,高于羥基自由基,對于羥基自由基反應速率較低的含氮有機物,具有更好的降解效果。

一、紫外線氯胺高級氧化:新興污染物的有效解決方案

UV/NH?Cl光氧化AOP工藝利用紫外光(通常為254 nm)照射水中的一氯胺(NH?Cl),使其發生均裂光解,產生活性自由基中間體,從而氧化難降解的新興污染物。

氯胺在水中的主要形態取決于pH值。在飲用水消毒的常規pH范圍(6.5-8.5)內,一氯胺是主導形態。一氯胺在紫外光照射下,其氮氯鍵(N-Cl)發生均裂,生成氨基自由基(·NH?)和氯自由基(Cl·)。生成的氯自由基會迅速與水反應,生成羥基自由基(HO·)和氯離子(Cl?),或與氯離子結合生成二氯自由基陰離子(Cl?·?)。

因此,紫外線氯胺體系中的主要活性氧化物種包括羥基自由基、氯自由基和二氯自由基陰離子。

工藝反應機理.png


二、紫外線過硫酸鹽高級氧化

紫外線過硫酸鹽(UV/Persulfate) AOP利用紫外光(通常為254 nm)照射過硫酸鹽,使其發生均裂光解,產生高活性的硫酸根自由基。

過二硫酸鹽(PDS)和過一硫酸鹽(PMS)分子中都含有一個過氧鍵(-O-O-),該鍵在紫外光照射下會發生均裂,生成硫酸根自由基(SO?·?)。硫酸根自由基的標準還原電位在2.5-3.1 V之間,氧化能力很強。

生成的硫酸根自由基可以通過直接電子轉移、加成和氫提取等多種機制,與目標污染物發生快速反應。該工藝的能量效率在眾多高級氧化工藝中通常處于較低水平。

安力斯環境已在多個項目中驗證了UV/Persulfate工藝對難降解有機污染物的處理效果。

作為提供完整解決方案的供應商,安力斯環境對整個工藝鏈有深入理解。公司在氧化及高級氧化領域擁有綜合專業知識,能夠根據水質特點和處理目標,選擇最合適的技術路線。

小試實驗水樣.png


公司在氯基和過硫酸鹽高級氧化工藝方面,已形成從實驗室小試、中試驗證到工程實施的全流程技術能力。公司自2005年起已安裝500多個污水處理廠,擁有工業園區污水廠的EPC和運營經驗,能夠為客戶提供從技術評估、方案設計到工程實施與運行維護的一站式服務。


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